电阻测试仪
方块电阻测量
从半导体制造到实现可穿戴技术所需的柔性电子产品，在任何需要用到导电薄膜的行业中，对方块电阻的测量与监控都至关重要。Filmetrics® R系列方块电阻测量设备拥有KLA方阻测量技术超过45年的创新积淀。自 1975 年推出第一台电阻率计以来，KLA品牌已彻底革新了导电层的方块电阻和厚度测量技术。全新的 Filmetrics R170 增加了自动化传片和 SECS/GEM协议支持，为半导体和化合物半导体制造领域提供全自动的方块电阻测量方案，支持最大200 毫米尺寸的晶圆规格。
Filmetrics® R170 方块电阻测绘系统
从半导体到化合物半导体制造，方块电阻的测量与监控对于任何需要用到导电薄膜的行业来说都至关重要。Filmetrics R170是KLA最新研发的方块电阻和电导率测绘系统。自动化的R170设计代表了KLA超过45年的方块电阻测量技术的领先地位。
Filmetrics R54-200
Filmetrics R54-200升级款方块电阻测试仪，保持 R50相同性能情况下提供遮光环境，能够支持半导体和化合物半导体应用，比如晶圆离子注入和外延生长片。
Filmetrics R54-200可配置为接触式四探针系统 (R54-200-4PP) 或非接触式涡流系统 (R54-200-EC)。
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Filmetrics R54-300
Filmetrics R54-300维持了和200毫米晶圆测量系统同样的小体积，采用高精度的 X-Y-θ 样品台，能避免边缘效应和进行高密度测绘。R54-300采用小巧的台式结构，提供量测功能用于工艺优化。
Filmetrics R54-300可配置为接触式四探针系统 (R54-300-4PP) 或非接触式涡流系统 (R54-300-EC)。
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Filmetrics R50-4PP
Filmetrics R50-4PP接触式四探针系统，可对金属层厚度、薄膜电阻、薄膜电阻率、薄膜电导和薄膜电导率进行测绘。十个量级跨度的超大测量范围和Z向大行程成就了R50-4PP在各种应用的超高适应性。
Filmetrics R50-200-4PP也可兼容较大尺寸样品的测量。
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Filmetrics R50-EC
Filmetrics R50-EC非接触式涡流系统，可对金属层厚度、薄膜电阻、薄膜电阻率、薄膜电导和薄膜电导率进行测绘。非接触式涡流法电阻测量是测量敏感和/或柔性导电表面电阻和薄膜厚度的理想选择。
Filmetrics R50-200-EC也可兼容较大尺寸样品的测量。
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KLA Instruments提供一系列轮廓仪、纳米压痕仪、薄膜厚度仪、电阻测量仪以及缺陷检测和量测系统。对于行业专家、学术界和其他创新者，KLA Instruments提供值得信赖的测量技术，助力世界实现技术上的突破性发展。
缺陷检测系统
Candela® 用于化合物半导体和硬盘驱动器的检测系统可以帮助工程师在通信、网络、LED、功率器件、传感器、太阳能、光伏和数据存储等应用中实现显著的良率和工艺改进。
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KLA Instruments 的纳米压痕仪产品能够提供精准、可靠和可重复的检测，用于在各种测试条件下确定材料静态和动态力学特征属性。
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Profilm3D® 和 Zeta™ 光学轮廓仪利用干涉仪和 ZDot 测量技术为 3D 台阶高度、粗糙度和其他表面形貌测量提供快速、非接触式的测量解决方案。
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Alpha-Step®, Tencor® P 系列和 HRP 探针式轮廓仪可实现高精度、二维 (2D) 和三维 (3D) 表面量测。探针式轮廓仪测量台阶高度、粗糙度、翘曲度和应力，具有优秀的稳定性和可靠性，可满足您的研发和生产量测要求。
薄膜厚度测量仪
Filmetrics® 薄膜厚度仪可在数秒内以业界先进的精度测量透明薄膜的厚度和折射率。